氧化铪 溅射靶材、71243-80-6 CAS查询、氧化铪 溅射靶材物化性质

 中文名称： 氧化铪 溅射靶材  

 中文别名： 氧化铪 溅射靶材;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THIC;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THICK, 99.95% (METALS BASIS EXCLUDING ZR);氧化铪(IV)溅射靶, 101.4MM (4.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.95% (METALS BASIS 去除 ZR)  

 英文名称： 氧化铪 溅射靶材  

 英文别名： HAFNIUM(+4)OXIDE;HAFNIUM(IV) OXIDE;Hafnium(IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0in) dia x 6.35mm (0.25in) thick, 99.95% (metals basis excluding Zr);Hafnium (IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0 in.) dia. x 6.35mm (0.25 in.) thick  

 CAS号： 71243-80-6  

 EINECS号： 235-013-2  

 分子式： HfO2  

 分子量： 210.49  

 InChI： -  

 分子结构：  

 密度： 9.68 g/mL at 25 °C(lit.)  

 熔点： -2810 °C  

 沸点： -  

 闪点： -  

 折射率： -  

 蒸汽压： -  

 物化性质： -  

 产品用途： -  

 危险品标志： -  

 风险术语： -  

 安全术语： 不要吸入灰尘、避免接触皮肤、避免接触眼睛